一、行業簡介
        半導體、集成電路芯片及（jí）封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的（de）純水、高純水、超純水清洗半成（chéng）品、成品（pǐn）。集成電路（lù）的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我（wǒ）國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化（huà）、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品（pǐn）等（děng）用純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體芯片、半導體封裝（zhuāng） 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導（dǎo）電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔淨產品及各種元器件（jiàn）等生產工藝用純水。
三（sān）、工藝簡介
1、係統（tǒng）模塊（kuài）化設計，共分四部分：預處理係統、反滲透係統、EDI係統、終端供水係統。
2、預處理係統主要用來去除原水中的懸（xuán）浮物、濁度、色度、膠（jiāo）體以及（jí）部分有機物，保證產水符合反滲（shèn）透係統的進水水質要求。
3、反滲透係統（tǒng）主要用來去除原水中溶解性鹽類物質、細菌（jun1）、熱源（yuán）等，保證產水符合EDI係（xì）統（tǒng）進水水質要（yào）求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽（yán）類物質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以上（shàng）。
5、終端供（gòng）水係統（tǒng）主要是用來將合格水輸（shū）送至（zhì）用水點（diǎn），輸送過程中對EDI產（chǎn）生進行最後的離子交換脫（tuō）鹽，使得產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四、技術特色
1、係（xì）統模塊化設計，占地麵積小，操作維護方便，安裝方（fāng）便快捷，整（zhěng）體美（měi）觀。
2、整套係（xì）統（tǒng）實現全（quán）自動化運行，並且手動與自動自由切換。
3、設備產水水質穩定，運行（háng）連續穩定。
4、係統工藝先進，無（wú）需化學藥品再生，無危害性廢液排放。
5、係統節水率高，係（xì）統回（huí）收率在75%以（yǐ）上。
6、關鍵部（bù）位采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五、設備參數（shù）
1、係統回收率（lǜ）：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產（chǎn）水符合《電子超純（chún）水（shuǐ）國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體（tǐ）工業純水指標。
3、單支（zhī）膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。